fib电镜制样费用-昭通fib电镜制样-9d实验室电镜测试

二次电子的发射率随原子序数的变化不是很明显，fib电镜制样机构，如图a所示，它主要取决于试样的表面形貌。它是入射电子与试样中核外电子碰撞，昭通fib电镜制样，使试样表面的核外电子被激发出来所产生的电子。当这些代表试样表面结构特征的电子被相应的探测器收集后作为扫描电镜的成像信号，其所成的像就称为二次电子像。二次电子像的衬度主要取决干试样表面与入射电子束所构成的倾角，而对于表面有一定形貌的试样，其形貌被看成由许许多多与入射电子束构成不同倾斜角度的微小形貌，如凸点、尖峰、台阶、平面、凹坑、裂纹和孔洞等细节所组成。

二次电子的检测信号和光电转换效率要高***图像信号的接收和信噪比的问题。试样表面的细节要足够多和细、组分反差要大***试样表面的结构问题。试样的导电性要好、二次电子产额要高***试样的特征和制备问题。加速电压和束流的大小、束斑的对中、工作距离和图像的衬度调节等电镜参数的选择要合理***操作人员的工作经验、综合素---题。供电电压的波动、地面的振动、周围的磁场和噪声等各种干扰都要尽可能小***环境条件的问题。