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描电镜和透射电镜对样品的要求

　　1、扫描电镜

　　扫描电镜制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，电镜分析费用，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度的薄层来说，造成的误差。

　　2、透射电镜

　　由于透射电镜得到的显微图像的---依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的透射电镜样品一般只能有10～100nm的厚度，这给透射电镜制样带来很大的难度。初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过度削磨则使该样品报废。透射电镜制样的另一个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要分析的时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过---离子束刻蚀(fib)来进行精细加工。

扫描电镜的结构

扫描电镜是针对台式电镜设计的，本着台式电镜简单易用，利用半导体制冷，无需额外冷却系统，深圳电镜分析，是一款具有处理所有类型材料能力的分析仪器，可以提供成像，配备x射线能谱仪接口，并有x射线几何设计，可对所有样品进行分析，对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像和分析精度。

　　扫描电镜---的x射线几何结构以及标配能谱仪和波谱仪，可变电压功能用于分析较少制备的非接触式样品，可移动的显微镜样品台用于观察大型样品，是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。扫描电镜的结构包括电子光学系统、图像显示和记录系统、真空系统、x射线能谱分析系统。